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超声波设备超声波清洗主要用于一般方法难以清洗的零件及形状特别复杂的零件(如仪器、仪表及钟表等精密机械零件);也用于清洗零件小孔或盲孔中的抛光膏以及不锈钢零件的油污和氧化皮等。超声波电镀用于一般电镀难以达到的、有较高的均镀和深度要求的零件(如有相当深度的盲孔或小孔零件,要求孔内镀层均匀,并有良好的结合力等)的电镀。应用超声波清洗,可以提高产品质量和产量,降低零件表面清洗的劳动强度。超声波设备由超声波发生器所发出的高频振荡信号,通过换能器转换成高频机械振荡而传播到介质——相应的清洗溶剂中,超声波在清洗液中疏密相间地向前辐射,使液体流动而产生数以万计的微小气泡,这些气泡在超声波纵向传播形成的负压区形成、生长,而在正压。区迅速闭合,当超声波中交变压力的峰值大于大气压力时,便发生空穴。空
阳极电泳槽液溶剂含量异常情况及处理溶剂含量下降〖伴有涂膜流平性差和膜厚下降〗a.高的挥发损失,与生产率低或槽温过高相关a.控制槽温在工艺要求范围内;降低UF液喷淋压力,补加助溶剂b.UF液渗漏过度b.控制UF液的排放速度在所要求的范围,添加助溶剂c.UF喷淋压力过高,导致挥发损失增加c.控制UF液喷淋压力d.槽液固体份降低d.增加槽液固体份溶剂含量过大〖伴有膜厚增加;并能引起较高剪切速率下槽液稳定性下降,因而造成槽液中出现颗粒〗a.助溶剂加量过大a.停止加入,并监测各种溶剂含量b.原漆加量过度
对于采用滚筒滚光容易引起变形或表面凹凸不平以及内表面需要光饰的零件,应选用振动光饰机。由于零件在光饰机内以每秒数十次的频率振动并与磨料相互摩擦,可使表面得到均匀的磨光,无明显加工痕迹,无冲击变形,加工效率比一般滚筒加工提高2~5倍。零件加工结束后,磨料与零件在出料端自动分离筛选出来,减轻了劳动强度,加工噪声也明显小于滚筒加工。振动光饰机的工作室是一个由若干个弹簧支撑在底座上的圆槽形壳体,壳体下部安装有振动电动机,随着电动机的高速旋转,使壳体产生高频振动,零件与磨料在壳体内作螺旋状翻滚运动,产生相互振动研磨,达到去除毛刺和表面光饰的目的。按照振动电动机的安装方式,振动光饰机可分为立式和卧式两种。立式的工作室一般为蜗壳状的圆形壳体,卧式的工作室为长方形带圆弧底的壳体。振动光饰加工
滚光设备体积较小的零件,用滚光的方法来进行表面清理(除油、除锈、滚亮等),是既经济方便,又具有较高生产效率的好办法,故在电镀工业中得到广泛应用。对尺寸要求不高的小零件,可用滚光来代替磨、抛光。所谓滚光,就是把零件放在滚筒中,加入一些添加物、磨料或溶液,用电动机通过传动机构带动滚筒滚动,利用零件互相摩擦和零件与磨料互相碰撞的机会(有时伴随着化学反应),将零件表面上的毛刺和粗糙不平滚光,同时除去零件表面的油污。滚光不仅适用于镀{前表面处理,而且也可用于镀后表面处理。清理滚筒有支架式和落地式两种。当产量不大、台数不多时常采用支架式清理滚筒,如{图8-1所示。它的特点是装卸零件方便,结构简单,不需要单独配置吊车。当产量大、台数较多时应采用托轮摩擦传动落地式清理滚筒,如图8—2所
磨光的目的是把粗糙不平的基体表面磨平。抛光的目的是进一步把磨光以后的磨粒痕迹或细小的粗糙不平加以平整,使其达到光亮的程度。有些已镀件也要再抛光,使镀层光亮美观。刷光的目的则是清除镀件表面上黏附的氧化膜薄层、细泥和污垢等。磨光、抛光和刷光的机械设备基本相似,这里仅介绍磨、抛光机。(1)磨、抛光机手工操作的磨、抛光机有标准定型产品,一般都是双工位的,磨光轮或抛光轮直接安装在水平主轴两端的锥形螺纹上。为保证安全和延长轮子的使用寿命,严禁轮轴反转,否则容易造成事故。通常,磨、抛光机可分为不带吸尘装置的磨、抛光机和自带吸尘装置的磨、抛光机两种。1)不带吸尘装置的磨、抛光机这类磨、抛光机一般为双轮,可由一台电动机驱动主轴两侧的砂轮,也可由两台电动机各驱动一个砂轮。轮
阳极电泳槽液MEQ值异常情况及处理MEQ值下降〖伴有pH值下降、膜厚增加、漆膜敏感性增加,超滤速度下降〗a.通过阴极隔膜控制pH值过度a.如条件许可阴极板暴露面积增加20%b.UF净化过度b.停止UF工作;当pH回至指标时以较低速度恢复UF净化工作c.阴极液电导率太低c.用中和剂调整,并使电导率调整至合适状态MEQ值上升〖伴有pH上升;膜厚下降〗a.槽液中和剂含量过高,pH值上升a.控制阴极系统工作状况,增加极液排放至MEQ参数正常b.阴极液电导率过高b.用去离子水调整,控制电导率的参数至合适状态c.槽
阳极电泳槽液灰份异常情况及处理灰份下降〖伴有成膜后光泽升高,易出现缩孔〗a.色浆加入量不足a.补加色浆调整b.NV值下降b.增加固体份至要求范围,监测灰份/固体份之比例c.槽液循环不良,导致颜料产生重力沉降。c.检查循环搅拌功能和管道、喷嘴是否正常,并即刻给予修正。 灰份升高〔伴有涂膜烘烤后出现粗糙、失光〕a.色浆加入量太大a.补树脂份b槽液固体份增加b.降固体份;监测灰份/NV之比
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