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化学镀钯的工艺特点

1647 人参与  2012年12月01日 01:20  分类 : 电镀技术 电镀工艺 电镀设备  评论

化学镀钯常用于通讯工业中的电接触和连接器方面,亦可作为金的替代品。化学镀钯可以自发地镀在铜、黄铜、金或化学镀镍层上。铜合金制件上化学镀钯前,应在25℃下浸入氯化钯的活化溶液(PdCl20.1g·L-1,HC1(38%)0.5mL·L-1)活化。在玻璃和塑料上化学镀钯,亦应先浸人与化学镀镍相同的氯化亚锡溶液中敏化,然后在氯化钯溶液中活化。
钯的催化活性强,可用肼、次磷酸盐、甲醛和硼烷作还原剂进行自催化沉积。
(一)用肼作还原剂的化学镀钯

(=)用次磷酸盐作还原剂的化学镀钯

(三)用胺硼烷作还原剂的化学镀钯
二甲基胺硼烷(DMAB)在还原Ni和cu时是合适的,但镀钯时因其还原能力太强,而改用叔基
胺硼烷,否则会影响镀液的稳定性。

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